작열방지제

1차 촉진제는 가황의 초기 단계를 촉진하는 데 사용됩니다. 이는 비교적 빠른 반응 속도를 가지며 일반적으로 원하는 수준의 가교를 달성하기 위해 2차 촉진제와 함께 사용됩니다. 1차 촉진제의 예로는 티오우레아, 디에틸티오우레아(DETU) 및 에틸렌 티오우레아(ETU)가 있습니다.

2차 촉진제는 1차 촉진제의 작용을 강화하고 가황 과정을 미세 조정하는 데 사용됩니다. 이들은 1차 촉진제보다 반응 속도가 느리며 일반적으로 원하는 수준의 가교를 달성하기 위해 이들과 함께 사용됩니다. 2차 촉진제의 예로는 술펜아미드, 티아졸 및 구아닐우레아가 있습니다.

지연제는 가황 과정을 늦추고 조기 연소를 방지하는 데 사용됩니다. 일반적으로 얇거나 복잡한 고무 부품 생산과 같이 가황 공정을 신중하게 제어해야 하는 응용 분야에 사용됩니다. 지연제의 예로는 산화아연 및 스테아르산이 있습니다.

활성화제는 촉진제의 효과를 높이고 가황 고무의 전반적인 성능을 향상시키는 데 사용됩니다. 필요한 촉진제의 양을 줄이고 가황 공정의 효율성을 높이는 데 도움이 될 수 있습니다. 활성화제의 예로는 산화아연, 산화마그네슘 등의 금속 산화물 활성화제, 황계 활성화제가 포함됩니다.

특수 가속기는 특정 애플리케이션을 위해 설계되었으며 다른 유형의 가속기에서는 사용할 수 없는 고유한 속성을 제공할 수 있습니다. 특수 가속기의 예로는 매우 높은 수준의 가교를 달성하도록 설계된 울트라 가속기와 황을 포함하지 않고 무황 가황이 필요한 응용 분야에 사용되는 비황 가속기가 있습니다.

황과 그 유도체는 조기 가황을 방지하는 효과로 인해 오랫동안 항스코칭제로 사용되어 왔습니다. 이는 일반적으로 다른 촉진제와 함께 사용되며 상대적으로 저렴하고 다양한 고무 유형과 호환된다는 장점이 있습니다. 그러나 황 기반 제제는 가공 중에 휘발성 부산물 형성에 기여할 수 있으며, 이는 환경 및 건강에 위험을 초래할 수 있습니다.

티오우레아와 그 파생물(예: 티우람, 테트라설파미드)은 특히 황-가황 시스템에서 탁월한 내스코칭 특성으로 알려져 있습니다. 이는 경화 과정을 효과적으로 제어하고 가황 고무의 최종 물리적 특성을 향상시킬 수 있습니다. 그러나 티오우레아 기반 제제는 특정 첨가제와의 호환성이 제한적일 수 있으며 피부 자극 가능성으로 인해 조심스럽게 취급해야 할 수 있습니다.

아인산염과 포스포나이트를 포함한 인 기반 화합물은 다양한 고무 시스템에서 효과적인 내스코칭 성능을 제공합니다. 이 제품은 폭넓은 호환성과 혼합 중 열 축적을 방지하는 능력으로 잘 알려져 있습니다. 인 기반 제제는 일반적으로 황 기반 제제에 비해 독성이 낮으며 항산화 및 난연성과 같은 추가적인 이점을 제공할 수 있습니다. 그러나 기존의 유황 기반 대안보다 가격이 더 비쌀 수 있습니다.

아민, 디아민과 같은 아미노 기반 화합물은 특히 고온 가공 환경에서 조기 가황을 방지하는 데 효과적입니다. 이는 우수한 열 안정성을 제공하고 고무 화합물의 가공성을 향상시킬 수 있습니다. 아미노 기반 에이전트는 특정 경화 조건이 필요할 수 있으며 모든 고무 제제와 호환되지 않을 수 있습니다.

디알킬주석 염 및 메르캅토-유기주석과 같은 유기주석 화합물은 다양한 고무 시스템에서 스코치를 방지하는 데 있어 높은 효율성으로 알려져 있습니다. 이는 경화 과정을 탁월하게 제어하고 가황 고무의 기계적 특성을 향상시킬 수 있습니다. 그러나 유기주석 기반 제제는 가격이 더 비쌀 수 있으며 사용과 관련하여 환경 및 건강 문제가 있을 수 있습니다.